Morgenfeld, Bradley: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (14)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

Intrafield overlay correction for illumination-based distortion

Pike, Michael, Brunner, Timothy, Morgenfeld, Bradley, Jing, Nan, Wiltshire, Timothy

Журнал:

Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS

Рік:

2016

Мова:

english

Файл:

PDF, 5.24 MB

english, 2016

2

Escaping death: single-patterning contact printing for 32/28-nm logic technology nodes

Morgenfeld, Bradley

Журнал:

Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS

Рік:

2012

Мова:

english

Файл:

PDF, 7.83 MB

english, 2012

3

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, United States (Sunday 21 February 2016)] Optical Microlithography XXIX - Patterned wafer geometry (PWG) metrology for improving process-induced overlay and focus problems

Erdmann, Andreas, Kye, Jongwook, Brunner, Timothy A., Zhou, Yue, Wong, Cheukwun, Morgenfeld, Bradley, Leino, Gerald, Mahajan, Sunit

Рік:

2016

Мова:

english

Файл:

PDF, 4.57 MB

english, 2016

4

[IEEE 2011 22nd Annual IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Saratoga Springs, NY, USA (2011.05.16-2011.05.18)] 2011 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference - Strategies for single patterning of contacts for 32nm and 28nm technology

Morgenfeld, Bradley, Stobert, Ian, Haffner, Henning, An, Juj, Kanai, Hideki, Ostermayr, Martin, Chen, Norman, Aminpur, Massud, Brodsky, Colin, Thomas, Alan

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.68 MB

english, 2011

5

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, United States (Sunday 22 February 2015)] Optical Microlithography XXVIII - Intra-field overlay correction for illumination based distortion

Lai, Kafai, Erdmann, Andreas, Pike, Michael, Brunner, Timothy, Morgenfeld, Bradley, Jing, Nan, Wiltshire, Timothy

Рік:

2015

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.18 MB

english, 2015

6

[IEEE 2015 26th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Saratoga Springs, NY, USA (2015.5.3-2015.5.6)] 2015 26th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Monitoring process-induced focus errors using high-resolution flatness metrology

Morgenfeld, Bradley J., Brunner, Timothy A., Nummy, Karen, Stoll, Derek, Jing, Nan, Lin, Hong, Vukkadala, Pradeep, Herrera, Pedro, Ramkhalawon, Roshita, Sinha, Jaydeep

Рік:

2015

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.34 MB

english, 2015

7

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 27 February 2011)] Optical Microlithography XXIV - Contact patterning strategies for 32nm and 28nm technology

Morgenfeld, Bradley, Stobert, Ian, An, Ju j, Kanai, Hideki, Chen, Norman, Aminpur, Massud, Brodsky, Colin, Thomas, Alan

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.39 MB

english, 2011

8

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, United States (Sunday 26 February 2017)] Advances in Patterning Materials and Processes XXXIV - Line end shortening and iso-dense etch bias improvement by ALD spacer shrink process

Hohle, Christoph K., Gronheid, Roel, Chen, Rui, Lobb, Granger, Clancy, Aleksandra, Morgenfeld, Bradley, Pal, Shyam

Рік:

2017

Мова:

english

Файл:

PDF, 636 KB

english, 2017

9

[IEEE 2013 24th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC 2013) - Saratoga Springs, NY (2013.5.14-2013.5.16)] ASMC 2013 SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference - Early detection of systematic patterning problems for a 22nm SOI technology using E-beam hot spot inspection

Patterson, Oliver D., Ryan, Deborah A., Monkowski, Mike D., Nguyen-ngoc, Dominique, Morgenfeld, Bradley, Chung-ham Lee,, Chieh-hung Liu,, Chi-ming Chen,, Shih-tsung Chen,

Рік:

2013

Мова:

english

Файл:

PDF, 633 KB

english, 2013

10

E-Beam Hot Spot Inspection for Early Detection of Systematic Patterning Problems for a 22 nm SOI Technology

Patterson, Oliver D., Ryan, Deborah A., Monkowski, Michael D., Nguyen-Ngoc, Dominique, Morgenfeld, Bradley, Lee, Chung-Han, Liu, Chieh-Hung, Chan, Chi-Ming, Chen, Shih-Tsung, Lei, Shuen-Cheng Chris

Журнал:

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing

Рік:

2014

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.41 MB

english, 2014

11

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, CA (Sunday 22 February 2009)] Optical Microlithography XXII - Benefits and trade-offs of global source optimization in optical lithography

Tian, Kehan, Krasnoperova, Azalia, Melville, David, Rosenbluth, Alan E., Gil, Dario, Tirapu-Azpiroz, Jaione, Lai, Kafai, Bagheri, Saeed, Chen, Chia-chen, Morgenfeld, Bradley, Levinson, Harry J., Dusa,

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.95 MB

english, 2009

12

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 27 February 2011)] Design for Manufacturability through Design-Process Integration V - Single exposure contacts are dead. Long live single exposure contacts!

Haffner, Henning, Rieger, Michael L., Ostermayr, Martin, Kanai, Hideki, Chang, Chan Sam, Morgenfeld, Bradley, An, Jujin, Luo, Meng, Zhuang, Haoren

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.92 MB

english, 2011

13

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 22 February 2009)] Optical Microlithography XXII - Contact mask optimization and SRAF design

Schroeder, Uwe P., Levinson, Harry J., Dusa, Mircea V., Tabery, Cyrus, Morgenfeld, Bradley, Kanai, Hideki

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 436 KB

english, 2009

14

[IEEE 2020 31st Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Saratoga Springs, NY, USA (2020.8.24-2020.8.26)] 2020 31st Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Improved Duplicate Photomask Matching using AIMSâ¢ Metrology for 14nm and smaller

Fakhoury, Jean R., Lawliss, Mark, Faure, Tom, Zweber, Amy, Ying, Yurong, Magg, Christopher, Morgenfeld, Bradley

Рік:

2020

Файл:

PDF, 238 KB

2020